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      常見問題

      拋光蠟的質量及濃度值對拋光產品的影響

      文字:[大][中][小] 手機頁面二維碼 2019-5-6     瀏覽次數:    
      很多產品在出廠前都要經過打磨拋光,以顯示產品表面的平、滑、亮、光的效果,提高產品的投放價值。所以,拋光蠟作為現在加工行業最廣泛應用的材料之一。


      使用拋光蠟的工具:海綿盤、納米毛巾、拋光機 拋光輪等。

      材料:拋光蠟(粗、中、細)

      拋光作用:解決漆面氧化層、條紋、污染、褪色等影響漆面外觀的深層問題。

      拋光原則:由重到輕,重力研磨,輕力提光。

      拋光蠟的拋光三環節:研磨、拋光、還原。通過表面預處理清除漆面上的污物,消除嚴重氧化及微劃痕或減輕表面缺陷,使漆面上無氧化層、條紋、污染、褪色等缺陷。


      拋光蠟的濃度值直接關系到拋光機上工件的加工效果,具體來說是影響工件粗糙度的值。拋光蠟的濃度不宜過濃或過稀,它們之間有一個最佳濃度值,只有在這個最佳的范圍內才能保證工件表面粗糙度的良好性。拋光蠟過濃的話會導致研磨時,工件表面的磨削力變大,會導致表面有劃痕,不光滑,同時粗糙度變大。當拋光蠟過稀時,工件表面磨削力太小,去除表面很慢也起不到去除斑點、劃痕的效果,粗糙度也人變大。因此只有拋光蠟濃度適當時這些問題才能徹底解決。


      假設拋光輪轉速為6000 r/min,拋光蠟流量為0.6L/min。隨著CeO2濃度的增大,氮化硅陶瓷加工表面Ra值變小,當拋光蠟濃度超過最佳濃度值后,Ra值增大。其原因是: 拋光蠟濃度較低時,拋光蠟中CeO2微粒不足,即沒有足夠的CeO2微粒參與化學反應,從而使氮化硅材料的去除率較低,表面粗糙度差;當拋光蠟濃度增大時,化學機械拋光過程中參與化學反應的原料供應增加,加大了有效機械研磨作用,使局部溫度升高,化學反應加速,并且生成的軟質層被有效去除,從而實現了較高的去除率和加工表面質量; 拋光蠟的濃度進一步增大時,化學作用得到進一步的增強,但是機械作用相對不足,導致表面粗糙度值增大。
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